等離子刻蝕,是干法刻蝕中最常見的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
全自動等離子蝕刻機的基本原理是在真空低氣壓下,ICP 射頻電源產生的射頻輸出到環(huán)形耦合線圈,以一定比例的混合刻蝕氣體經耦合輝光放電,產生高密度的等離子體,在下電極的RF 射頻作用下,這些等離子體對基片表面進行轟擊,基片圖形區(qū)域的半導體材料的化學鍵被打斷,與刻蝕氣體生成揮發(fā)性物質,以氣體形式脫離基片,從真空管路被抽走。全自動等離子蝕刻機工作需要360°旋轉,會遇到繞線問題,默孚龍推薦使用MFO系列光纖滑環(huán)。
默孚龍MFO系列光纖滑環(huán)是目前工業(yè)滑環(huán)里面技術難度最高的的一個系列產品,主要應用于360度連續(xù)旋轉且需要保證電源,光纖信號不能中斷的場合:如高端機器人、高端物料輸送系統(tǒng)、軍用車輛上的轉動炮塔、遠程控制系統(tǒng)、雷達天線、光纖傳感等轉臺(速率臺)的高速視頻、數(shù)字、模擬信號的傳輸和控制、醫(yī)療系統(tǒng)、視頻監(jiān)視系統(tǒng)、保障國家或國際安全系統(tǒng)海底作業(yè)系統(tǒng)、緊急照明設備、機器人、展覽/顯示設備、醫(yī)療設備等。
默孚龍擁有強大的研發(fā)實力,豐富的經驗,獨特的設計理念,先進的測試技術,以及數(shù)年來的技術積累和對國外先進技術的合作及吸收,使我們的技術始終保持國際領先水平,引領行業(yè)。
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